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據(jù)報(bào)道，佳能正在開發(fā)用于半導(dǎo)體3D技術(shù)的光刻機(jī)。在尖端半導(dǎo)體領(lǐng)域，3D技術(shù)可以通過堆疊多個(gè)芯片來提高半導(dǎo)體的性能。佳能新的光刻機(jī)產(chǎn)品最早將于2023年上半年上市。曝光面積擴(kuò)大至現(xiàn)有產(chǎn)品的約4倍，可支持AI使用的大型半導(dǎo)體生產(chǎn)。